GR2 GR5 Industri Pelapis Sasaran Titanium Murni Paduan Titanium Ti6Al4V

 kualitas tinggi titanium target GR2 GR5 paduan titanium Ti6Al4V

Kata "target" dalam "target sputtering titanium" berasal dari bahan target umum dalam kehidupan kita sehari-hari.Dalam proses pengendapan sputtering, bahan pelapis dibombardir oleh berkas elektron atau berkas ion, seperti target yang dipukul, sehingga bahan yang digunakan dalam proses sputtering disebut "target sputtering".

Dari target metal titanium hingga titanium sputtering

Target sputtering titanium adalah produk titanium yang terbuat dari logam titanium sebagai bahan baku, yang digunakan untuk memproduksi film titanium dengan cara sputtering.Singkatnya, ada dua metode untuk memproduksi target sputtering titanium dengan metode pengecoran logam titanium dan metode metalurgi serbuk.

Pengecoran: Lelehkan bahan baku dengan proporsi tertentu, tuangkan larutan paduan ke dalam cetakan untuk membentuk ingot, dan terakhir mesinkan menjadi target sputtering.Metodenya adalah peleburan dan pengecoran dalam ruang hampa.

Metalurgi serbuk: Lelehkan bahan mentah dengan proporsi tertentu, masukkan ke dalam ingot, hancurkan, tekan isostatik bubuk, lalu sinter pada suhu tinggi untuk membuat target.

Nama produk: Titanium target sputtering

Bahan: Titanium murni: GR1 GR2

Kemurnian >= 99,6%

Aplikasi: Perangkat keras, dekorasi, peralatan, keramik, golf, dan industri pelapis lainnya.

Dimensi:

Target sputtering bulat: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 dan ukuran spesifik lainnya.

Target sputtering tabung: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm,Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm, dan ukuran spesifik lainnya.

Target sputtering pelat: T6-40×W60--800×L600--2000mm dan ukuran khusus lainnya.

Kami dapat menyesuaikan target paduan dalam proporsi berbeda sesuai dengan kebutuhan pelanggan

Gambar detail:

Bahan:

1) Target paduan Ti/Al (67:33,50:50at%)

2) Target paduan W/Ti (90:10% berat),

3) Target paduan Ni/V (93:7, berat%)

4) Target paduan Ni/Cr (80:20, 70:30, wt%),

5) Target paduan Al/Cr (70:30,50:50at%)

6) Target paduan Nb/Zr (97:3,90:10% berat)

7) Target paduan Si/Al (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, wt%)

8) Target paduan Zn/Al

9) Target kromium kemurnian tinggi (99,95%, 99,995%)

10) Target paduan Al/Cr (70:30, 50:50, 67:33, pada%)

11) Target paduan Ni/Cu (70:30, 80:20, wt%)

12) Target paduan Al/Nd (98:2% berat)

13) Target paduan Mo/Nb (90:10, wt%)

14) Target paduan TiAlSi (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10,% berat dan pada%)

15) Target paduan CrAlSi (Cr / Al / Si = 30/60/10,% berat dan pada%)