Target Sputtering Titanium Kemurnian Tinggi ASTM B348

Target Sputtering Titanium Kemurnian Tinggi ASTM B348

Target sputtering titanium kemurnian tinggi ini diproduksi dari titanium Grade 1, Grade 2, Grade 5, Grade 7, dan Grade 12 dengan kandungan titanium minimum 99,5% dan kandungan pengotor di bawah 0,04%. Target ditempa dan dimesin CNC sesuai ASTM B348 dan ASTM B381 dengan kepadatan 4,51 atau 4,50 g/cm3, dan target paduan seperti Ti-Al, Ti-Cr, dan Ti-Zr serta krom, zirkonium, tembaga, dan tungsten juga dapat dipasok.

Spesifikasi Teknis

Bentuk dan Ukuran Target yang Tersedia

Aplikasi & Keunggulan Titanium

Target sputtering titanium digunakan dalam pemisahan semikonduktor, pelapisan film, pelapisan elektroda penyimpanan, pelapisan sputtering, pelapisan permukaan, dan industri pelapisan kaca. Kemurnian sangat memengaruhi kinerja film yang disputtering, karena kemurnian yang lebih tinggi memberikan ketahanan korosi yang lebih baik serta sifat listrik dan optik yang lebih baik. Pengotor dalam target padat, bersama dengan uap oksigen dan air yang terperangkap dalam pori-pori, adalah sumber utama kontaminasi film, dan kepadatan memengaruhi laju sputtering serta kualitas listrik dan optik film. Struktur butir yang halus dan terdistribusi merata akan menyepuh lebih cepat dan menghasilkan ketebalan film yang lebih merata.

Kualitas, Kustomisasi & Pertanyaan

Target ditempa dan dimesin CNC di bawah kontrol kualitas ISO9001 dan dikemas dalam kantong plastik vakum dengan busa dan kapas mutiara di dalam kotak kayu lapis bebas fumigasi untuk memenuhi standar transportasi internasional. Bentuk, ukuran, grade, dan kuantitas dapat disesuaikan, kapasitas bulanan mencapai 5000 buah dan pengiriman biasanya memakan waktu 15-20 hari. Silakan kirimkan bentuk target, dimensi, persyaratan kemurnian, dan kuantitas Anda agar kami dapat menyiapkan penawaran.