logo

rincian produk

Created with Pixso. Rumah Created with Pixso. Produk Created with Pixso.
Target Titanium
Created with Pixso.

Target Titanium Tinggi Kebersihan Gr1 Gr2 Gr5

Target Titanium Tinggi Kebersihan Gr1 Gr2 Gr5

Nama merek: LHTi
Nomor Model: Titanium Target
Jumlah Pesanan Minimum: 100 pieces
Harga: dapat dinegosiasikan
Ketentuan Pembayaran: L/C,D/A,D/P,T/T,Western Union,
Kemampuan Penyediaan: 5000 Pieces Per Month
Informasi Rinci
Place of Origin:
Baoji, Shaanxi, China
Sertifikasi:
ISO9001, CE, API,etc
Kamera:
Kuadrat (48MP + 8MP + 5MP + 2MP)
Pegangan:
Knurled
MELAYANI:
OEM, ODM
Menyelesaikan:
Dipoles dan cerah
Jenis Saham:
Dapat disesuaikan
Warna Pita:
Perak
Fleksibilitas:
Rendah
Kata kunci:
Target Sputtering Titanium
Fitur:
Kronograf, Tampilan tanggal, Jarum bercahaya
Konduktivitas Listrik:
3,1 juta m/m
Titik didih:
3560 K
Pergerakan:
Kuarsa
Konduktivitas Termal:
21.9 W/m·K)
Pengolahan:
Panggul
Kontrol Kualitas:
Pengujian Ultrasonik
Packaging Details:
All goods are packed by seaworth shipment materials or required by buyer
Supply Ability:
5000 Pieces Per Month
Menyoroti:

Target Titanium Keaslian Tinggi yang Disemprotkan

,

Target Titanium Sputtering Industri Medis

,

Tanggal Tampilan Titanium Sputtering Target

Deskripsi Produk

Target Sputtering Titanium Kemurnian Tinggi Gr1 Gr2 Gr5

Target sputtering titanium adalah bahan sumber yang digunakan dalam sputtering magnetron untuk mengendapkan film titanium tipis pada substrat. Target dibombardir oleh ion dalam ruang vakum dan atom titanium yang dikeluarkan mengendap pada bagian sebagai lapisan seragam dengan kemurnian tinggi. Karena perangkat modern membutuhkan film setebal mikron atau bahkan nanometer, target harus padat dan bebas dari pori-pori dan inklusi sehingga film konsisten di area yang luas. Target titanium ini dibuat dengan hot isostatic pressing (HIP) dalam Gr1, Gr2 dan Gr5 dan dipoles dan cerah, dan diuji ultrasonik sebelum pengiriman.

Spesifikasi Teknis

Produk Target sputtering titanium
Bahan Titanium Gr1, Gr2, Gr5
Kemurnian Kemurnian tinggi
Pemrosesan HIP (hot isostatic pressing)
Finishing Dipoles dan cerah
Layanan OEM, ODM
Kontrol Kualitas Pengujian ultrasonik
Aplikasi Pelapisan film tipis, elektronik, semikonduktor

Bahan Target yang Tersedia

Bahan Tipe
Titanium Gr1, Gr2, Gr5 Titanium murni
TiAl Aluminium titanium
TiCr Kromium titanium
TiCu Tembaga titanium
TiSi Silikon titanium
Zirkonium, krom, molibdenum Logam target lainnya

Sifat Fisik

Sifat Nilai
Titik Leleh 1668 °C
Titik Didih 3560 K
Konduktivitas Listrik 3.1 MS/m
Konduktivitas Termal 21.9 W/(m·K)
Kepadatan 4.51 g/cm3

Gambar Produk

High purity titanium sputtering target

Polished titanium sputter target Gr5

Aplikasi

Target sputtering titanium digunakan untuk pelapisan film tipis pada komponen elektronik seperti dioda semikonduktor, layar kristal cair, dan media penyimpanan optik, di mana kontrol ketebalan film yang tepat memengaruhi konduktivitas, manajemen termal, dan daya tahan. Film-film tersebut menambah ketahanan korosi, ketahanan aus, dan daya rekat yang lebih baik antar lapisan. Karena HIP menghasilkan target yang padat dan seragam, lapisan dapat diendapkan secara merata di area yang luas dengan ketebalan yang konsisten, yang penting untuk produksi panel datar dan optik presisi. Paduan titanium yang berbeda dan logam lainnya dapat dipasok untuk persyaratan konduktivitas listrik, stabilitas termal, dan kekerasan tertentu.