GR2 GR5 Titanium murni Industri Lapisan Target Titanium Alloy Ti6Al4V

Titanium berkualitas tinggi target GR2 GR5 paduan titanium Ti6Al4V

Kata "target" dalam "target titanium sputtering" berasal dari bahan target yang umum dalam kehidupan sehari-hari kita.bahan pelapis dibombardir oleh sinar elektron atau sinar ion, sama seperti target yang terkena, jadi bahan yang digunakan dalam proses sputtering disebut "target sputtering".

Dari titanium logam ke titanium target penyemprotan

Titanium sputtering target adalah produk titanium yang terbuat dari titanium logam sebagai bahan baku, yang digunakan untuk menghasilkan titanium film dengan sputtering.ada dua metode untuk memproduksi sasaran titanium dengan metode metal titanium casting dan metode metalurgi bubuk.

Membuang: Mencairkan bahan baku dengan proporsi tertentu, menuangkan larutan paduan ke dalam cetakan untuk membentuk batuan, dan akhirnya mengolahnya menjadi sasaran penyemprotan.Metode ini adalah peleburan dan pengecoran dalam vakum.

Metallurgi bubuk: Lebur bahan baku dengan proporsi tertentu, tuangkan ke dalam batu bata, hancurkan, tekan bubuk dengan isostatik, dan kemudian sinterkan pada suhu tinggi untuk membuat target.

Nama produk: Titanium target sputtering

Bahan: Titanium murni: GR1 GR2

Kemurnian >= 99,6%

Aplikasi: Hardware, dekorasi, alat, keramik, golf dan industri pelapis lainnya.

Dimensi:

Target penyemprotan bulat: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 dan ukuran spesifik lainnya.

Target penyemprotan tabung: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm, dan ukuran spesifik lainnya.

Target penyemprotan lempeng: T6-40×W60--800×L600--2000mm dan ukuran spesifik lainnya.

Kami dapat menyesuaikan target paduan dalam proporsi yang berbeda sesuai dengan kebutuhan pelanggan

Gambar rinci:

Bahan:

1) Target paduan Ti/Al (67:33,50:50at%)

2) Target paduan W/Ti (90:10 wt%),

3) Sasaran paduan Ni/V (93:7, wt%)

4) Sasaran paduan Ni/Cr (80:20, 70:30, wt%),

5) Target paduan Al/Cr (70:30,50:50at%)

6) Sasaran paduan Nb/Zr (97:3,90:10 wt%)

7) Tujuan paduan Si/Al (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, wt%)

8) Sasaran paduan Zn/Al

9) Tujuan kromium kemurnian tinggi (99,95%, 99,995%)

10) Target paduan Al/Cr (70:30, 50:50, 67:33, pada%)

11) Tujuan paduan Ni/Cu (70:30, 80:20, wt%)

12) Target paduan Al/Nd (98:2wt%)

13) Tujuan paduan Mo/Nb (90:10, wt%)

14) Target paduan TiAlSi (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10,wt% dan pada%)

15) Sasaran paduan CrAlSi (Cr/Al/Si=30/60/10,wt% dan pada%)