Target Metal Sputtering Gr1 Gr2 Gr5 Titanium Sputtering Silver Sputtering Target Untuk Mesin Lapisan Vakum PVD

Target Metal Sputtering Gr1 Gr2 Gr5 Titanium Sputtering Silver Sputtering Target Untuk Mesin Lapisan Vakum PVD

Rincian produk:

Kelas: Gr1 Gr2 Gr5 Titanium, TiAl, TiCr, TiCu, TiSi, Mo, Cr dll Sesuai permintaan pelanggan

Ukuran: 60/65/70/80/85/90/95/100 ((D)/200/300/400×20/30/32/35/40/42/45/50 ((T) Atau sesuai permintaan pelanggan

Permukaan: permukaan terang

Aplikasi: Industri pelapis, industri pelapis vakum sputtering

Persyaratan Kimia:

Nama produk: Titanium target sputtering

Bahan: Titanium murni: GR1 GR2

Kemurnian >= 99,6%

Aplikasi: Hardware, dekorasi, alat, keramik, golf dan industri pelapis lainnya.

Dimensi:

Target penyemprotan bulat: Φ100×40, Φ95×45, Φ80×40, Φ90×40, Φ85×35 dan ukuran spesifik lainnya.

Target penyemprotan tabung: Φ70×7×L900--2000mm, Φ89.4mmX7.62mmX1728mm, Φ89.4mmX15mmX1728mm, Φ80mmX10mmX1728mm, dan ukuran spesifik lainnya.

Target penyemprotan plat: T6-40×W60--800×L600--2000mm dan ukuran spesifik lainnya.

Kami dapat menyesuaikan target paduan dalam proporsi yang berbeda sesuai dengan kebutuhan pelanggan

Target titanium sputter adalah bahan penting yang digunakan dalam berbagai proses manufaktur canggih, terutama dalam teknologi deposisi film tipis seperti sputtering.Target ini banyak digunakan dalam produksi pelapis untuk berbagai aplikasiBerikut ini adalah tampilan yang mendalam pada bahan-bahan ini, aplikasi, dan spesifikasi mereka.

1Apa itu Titanium Sputter Target?

Target sputter adalah bahan yang digunakan dalam deposisi sputtering, metode deposisi film tipis.bahan target dibombardir oleh ion energi (biasanya dari plasma) yang menyebabkan atom dikeluarkan (disemprotkan) dan disimpan pada substratTitanium sputter target khusus digunakan untuk mendepositkan titanium film tipis pada berbagai permukaan,memberikan sifat yang bermanfaat seperti ketahanan korosi, tahan aus, dan daya tahan yang ditingkatkan.

2. Jenis Titanium Sputter Target

Ada beberapa variasi target titanium sputter, masing-masing menawarkan sifat dan aplikasi yang unik:

• Titanium (Ti) Sputter Target:
  Target titanium murni (Gr1, Gr2, Gr5) banyak digunakan untuk mendepositkan film titanium.lapisan tahan lama dengan ketahanan korosi yang sangat baik.

• Titanium-Aluminium (TiAl) Sputter Target:
  Target sputter TiAl adalah kombinasi titanium dan aluminium.

• Titanium-Chromium (TiCr) Sputter Target:
  Target TiCr berguna untuk mendepositkan film yang memiliki kekerasan dan ketahanan aus yang ditingkatkan.

• Target Sputter Titanium-Tembaga (TiCu):
  Target penyemprotan TiCu menggabungkan sifat titanium dan tembaga. tembaga memberikan konduktivitas listrik dan termal yang tinggi,membuat target ini ideal untuk mikroelektronika dan transistor film tipis.

• Titanium-Silicon (TiSi) Sputter Target:
  Target sputter TiSi digunakan untuk memproduksi film dengan stabilitas termal tertentu dan ketahanan kimia, umumnya digunakan dalam perangkat semikonduktor, komponen mikroelektronik dan pelapis optik.

• Zirconium (Zr) Sputter Target:
  Zirconium sputter target sering digunakan dalam aplikasi yang membutuhkan ketahanan korosi yang tinggi, ketahanan oksidasi, dan ketahanan aus.dan pelapis optik.

• Cita-cita penyemprotan krom (Cr):
  Target penyemprotan Cr digunakan untuk mendepositkan lapisan keras dan tahan aus dan untuk dekorasi permukaan.

• Target Sputter Molibdenum (Mo):
  Target sputter molibdenum memberikan stabilitas suhu tinggi dan ideal untuk aplikasi dalam elektronik, fotovoltaik, dan pelapis optik.

3. Kelas Bahan Titanium Sputter Target

• Kelas 1 (Gr1): Titanium murni secara komersial dengan ketahanan korosi yang sangat baik, tetapi kekuatan yang lebih rendah.Cocok untuk aplikasi yang membutuhkan ketahanan korosi yang tinggi tetapi tidak memerlukan kekuatan mekanik yang tinggi, seperti peralatan kimia dan implan medis.

• Kelas 2 (Gr2): Kelas titanium murni yang paling banyak digunakan secara komersial, menawarkan keseimbangan kekuatan dan ketahanan korosi.

• Kelas 5 (Gr5): Dikenal sebagai Ti-6Al-4V, paduan titanium ini menggabungkan 6% aluminium dan 4% vanadium untuk kekuatan yang lebih tinggi.dan pelapis berkinerja tinggi.

4. Ukuran Umum Titanium Sputter Target

Titanium sputter target datang dalam berbagai ukuran standar, tergantung pada aplikasi spesifik dan persyaratan sistem deposisi.

• Φ100*40 mm
• Φ98*40 mm
• Φ95*45 mm
• Φ90*40 mm
• Φ85*35 mm
• Φ65*40 mm

Selain ukuran standar ini, target titanium sputter dapat disesuaikan untuk memenuhi persyaratan pelanggan tertentu, baik berdasarkan dimensi tertentu atau komposisi bahan.

5. Persyaratan Target

Kualitas target sputter secara signifikan mempengaruhi kualitas film yang disimpan.

• Kemurnian tinggi: Kemurnian tinggi sangat penting untuk memastikan bahwa film yang terdeposit bebas dari kotoran, yang dapat mempengaruhi sifat atau kinerjanya.

• Biji Kristal Seragam: Sasaran harus memiliki struktur kristal seragam, yang penting untuk penyemprotan yang konsisten dan deposisi film tipis seragam.

• Kompakitas yang baik: Sasaran harus memiliki struktur yang padat dan terbentuk dengan baik untuk memastikan bahwa penyemprotan terjadi secara merata dan efisien.

• Kontaminasi Rendah: Sasaran seharusnya tidak mengandung kotoran yang dapat mencemari proses deposisi, yang sangat penting untuk aplikasi presisi tinggi seperti semikonduktor dan nanomaterial.

6. Aplikasi Titanium Sputter Target

Titanium sputter target digunakan dalam berbagai proses manufaktur canggih.

• Elektronik: Film titanium yang disemprotkan digunakan untuk lapisan konduktif, film isolasi, dan lapisan magnetik dalam perangkat elektronik seperti smartphone, layar, dan transistor film tipis.

• Semikonduktor: Titanium dan paduannya digunakan dalam pembuatan perangkat semikonduktor untuk interkoneksi, kapasitor, dan komponen penting lainnya.

• Aerospace: Film titanium diterapkan pada komponen di bidang aerospace dan aplikasi militer, di mana rasio kekuatan berat yang tinggi, ketahanan korosi, dan ketahanan aus sangat penting.

• Lapisan Optik: Titanium sputter target digunakan untuk mendepositkan film tipis untuk lapisan optik (misalnya, film anti-reflektif, cermin, dan filter optik).

• Nanomaterial: Film titanium digunakan dalam pembuatan nanomaterial dengan sifat khusus untuk katalisis, sel surya, elektroda baterai, dan aplikasi nanotube.

• Perangkat Medis: Film titanium yang disemprotkan digunakan dalam aplikasi biomedis, terutama untuk menciptakan lapisan biocompatible pada implan dan instrumen bedah.

Persyaratan kimia

Bahan:

1) Target paduan Ti/Al (67:33,50:50at%)

2) Target paduan W/Ti (90:10 wt%),

3) Sasaran paduan Ni/V (93:7, wt%)

4) Sasaran paduan Ni/Cr (80:20, 70:30, wt%),

5) Target paduan Al/Cr (70:30,50:50at%)

6) Sasaran paduan Nb/Zr (97:3,90:10 wt%)

7) Tujuan paduan Si/Al (90:10, 95:5, 98:2, 70:30, wt%)

8) Sasaran paduan Zn/Al

9) Tujuan kromium kemurnian tinggi (99,95%, 99,995%)

10) Target paduan Al/Cr (70:30, 50:50, 67:33, pada%)

11) Tujuan paduan Ni/Cu (70:30, 80:20, wt%)

12) Target paduan Al/Nd (98:2wt%)

13) Tujuan paduan Mo/Nb (90:10, wt%)

14) Tujuan paduan TiAlSi (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10,wt% dan pada%)

15) Sasaran paduan CrAlSi (Cr/Al/Si=30/60/10,wt% dan pada%)

Memahami Tingkat Titanium

Titanium diklasifikasikan ke dalam berbagai kelas berdasarkan komposisi dan sifatnya.Kelas 2 (Gr2) juga murni secara komersial tetapi dengan kekuatan yang sedikit lebih tinggi, sehingga cocok untuk berbagai aplikasi. Kelas 5 (Gr5), juga dikenal sebagai Ti-6Al-4V, adalah paduan yang mengandung aluminium dan vanadium, menawarkan rasio kekuatan berat yang superior,membuatnya ideal untuk aplikasi yang menuntut kinerja tinggi di bawah tekanan.

Paduan TiAl, yang menggabungkan titanium dengan aluminium, memberikan kekerasan dan stabilitas termal yang ditingkatkan.Hal ini membuat mereka sangat berharga untuk lapisan yang membutuhkan ketahanan keausan yang sangat baik dan kinerja pada suhu tinggiSifat unik dari kelas titanium dan paduan ini membuat mereka pilihan yang menguntungkan untuk berbagai aplikasi PVD,di mana kualitas lapisan secara langsung mempengaruhi kinerja produk akhir.

Peran Target Sputtering dalam Lapisan PVD

Sasaran penyemprotan adalah bahan yang dibombardir oleh partikel bermuatan kecepatan tinggi selama proses lapisan PVD.atom dikeluarkan dari permukaannya dan disimpan pada substratPemilihan bahan target secara langsung mempengaruhi sifat film yang dihasilkan, memungkinkan kustomisasi lapisan untuk memenuhi kebutuhan khusus.Dengan memilih bahan target yang berbeda, seperti paduan aluminium, tembaga, atau titanium, produsen dapat memproduksi film dengan karakteristik yang bervariasi, termasuk kekerasan super, ketahanan aus, dan sifat anti korosif.

Dalam kasus target titanium sputtering, kemampuan untuk menghasilkan film yang menunjukkan adhesi yang superior, gesekan rendah, dan kekerasan tinggi sangat bermanfaat.Sifat ini sangat penting untuk aplikasi di industri seperti aerospace, otomotif, dan teknologi medis, di mana komponen tunduk pada kondisi ekstrem dan harus mempertahankan integritas dari waktu ke waktu.produsen dapat mencapai lapisan yang meningkatkan kinerja dan umur panjang komponen penting.

Memahami Sasaran Sputtering

Sputtering adalah teknik deposisi yang digunakan untuk membuat film tipis pada berbagai substrat.yang mengeluarkan atom dari permukaan targetAtom-atom yang dikeluarkan ini kemudian menetap pada substrat, membentuk film tipis.Sputtering disukai dalam aplikasi medis karena kemampuannya untuk menghasilkan lapisan seragam dengan kontrol yang tepat atas ketebalan dan komposisi.

Target logam, termasuk titanium, sangat berharga di sektor medis karena sifat mekaniknya yang menguntungkan, ketahanan korosi, dan biokompatibilitas.digunakan secara luas untuk aplikasi medis karena rasio kekuatan-ke-berat dan kemampuan untuk mengintegrasikan dengan lancar dengan jaringan manusia.

Pentingnya Titanium dalam Aplikasi Medis

Titanium adalah bahan yang luar biasa dalam bidang medis, terutama karena biokompatibilitasnya.membuatnya ideal untuk implan jangka panjang seperti prostetik ortopedi dan perlengkapan gigiSelain itu, ketahanan korosi titanium memastikan bahwa ia mempertahankan integritasnya dalam lingkungan yang keras yang sering ditemukan di dalam tubuh manusia.

Ketika digunakan sebagai target penyemprotan, titanium dapat disesuaikan untuk memenuhi persyaratan khusus untuk berbagai perangkat medis.struktur butir, dan kompaknya bahan target, yang secara langsung mempengaruhi sifat film yang terdeposit.

Aplikasi Target Sputtering di Industri Medis

Sasaran penyemprotan titanium yang disesuaikan digunakan dalam berbagai aplikasi medis, termasuk:

• Implan ortopedi: Lapisan titanium meningkatkan sifat permukaan perangkat ortopedi, meningkatkan biokompatibilitas dan mengurangi keausan.Hal ini sangat penting untuk implan yang menahan beban mekanis yang signifikan.

• Implan Gigi: Lapisan titanium yang disemprotkan meningkatkan osseointegrasi implan gigi, mempromosikan ikatan yang lebih baik dengan jaringan tulang di sekitarnya.

• Instrumen bedah: Lapisan yang diterapkan melalui penyemprotan dapat meningkatkan kekerasan dan ketahanan korosi alat bedah,memperpanjang umur mereka dan mempertahankan kinerja mereka melalui siklus sterilisasi berulang.

• Sistem Pengiriman Obat: Teknik penyemprotan inovatif memungkinkan pengembangan film ultra tipis yang dapat memfasilitasi pelepasan obat yang terkendali, meningkatkan efektivitas pengobatan.

Titanium dalam penggunaan medis:

Titanium, terutama Grade 1 dan Grade 2, sangat dihargai di bidang medis dan biomedis karena biokompatibilitas, kekuatan, dan karakteristik ringan.Hal ini umumnya digunakan dalam perangkat medis karena tidak berbahaya bagi tubuh dan tidak mungkin menyebabkan reaksi alergi.

Penggunaan Utama Titanium untuk Kesehatan:

1. Implan Ortopedi: Titanium sering digunakan dalam sekrup tulang, lempeng, penggantian sendi, dan implan tulang belakang karena meniru sifat-sifat tulang.
2. Implan Gigi: Biokompatibilitas dan kekuatan titanium menjadikannya pilihan yang sempurna untuk implan gigi yang membutuhkan daya tahan tinggi dan ketahanan terhadap korosi.
3. Instrumen Medis: Karena ketahanan korosi, alat bedah, jarum, skalpel, dan instrumen medis lainnya sering dibuat dari titanium atau paduan titanium.
4. Prosthetics: Titanium digunakan dalam produksi kaki palsu dan implan karena kombinasi ringan dan kekuatan.
5. Perangkat Kardiovaskular: Titanium digunakan dalam produksi kasus alat pacu jantung, stent, dan katup karena sifatnya yang tidak reaktif dalam tubuh manusia.
6. Lapisan tahan aus: Titanium sputtering target dapat digunakan untuk mendeposit lapisan tipis pada perangkat medis untuk meningkatkan ketahanan aus, mengurangi gesekan, dan meningkatkan biokompatibilitas.

Titanium Grades:

Kesimpulan:

Titanium alloy sputtering targets, termasuk TiAl alloys, adalah bahan serbaguna yang banyak digunakan untuk aplikasi pelapis di industri mulai dari aerospace hingga elektronik dan biomedis.Bahan-bahan ini memberikan sifat yang luar biasa seperti kekuatan, ketahanan korosi, biokompatibilitas, dan ketahanan haus, menjadikannya ideal untuk aplikasi yang menuntut yang membutuhkan film tipis tahan lama dan berkinerja tinggi.Saat memilih target titanium sputtering, faktor-faktor seperti komposisi paduan, kemurnian, dan target geometri harus dipertimbangkan untuk mencapai hasil yang optimal dalam proses sputtering.